Shaanxi Puwei Electronic Technology Co., Ltd

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Substrato metallizzato DPC per circuiti a film sottile
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Substrato metallizzato DPC per circuiti a film sottile

Substrato metallizzato DPC per circuiti a film sottile

  • $5

    ≥50 Piece/Pieces

Ombra:
  • Tipo di pagamento: T/T
  • Incoterm: FOB,CIF,EXW
  • Quantità di ordine minimo: 50 Piece/Pieces
  • Trasporti: Ocean,Air,Express
  • Porta: Shanghai,Beijing,Xi’an
descrizione
Caratteristiche del prodotto

marchioCeramica Puwei

Luogo D'origineCina

MaterialeALLUMINA, Nitruro di alluminio

Substrato DPC Per Circuiti A Film SottileSubstrato metallizzato in rame a rame placcato diretto per circuiti a film sottile

Confezionamento e consegna
Unità vendibili: Piece/Pieces
Tipo pacchetto: I substrati ceramici sono imballati in cartoni con rivestimenti in plastica per evitare graffi e umidità. I cartoni robusti vengono impilati su pallet, fissati con reggette o pellicola termoretraibile. In questo modo garantisce stabilità, facilità di movi
Esempio immagine:
Capacità di fornitura e informazioni aggiuntive

PacchettoI substrati ceramici sono imballati in cartoni con rivestimenti in plastica per evitare graffi e umidità. I cartoni robusti vengono impilati su pallet, fissati con reggette o pellicola termoretraibile. In questo modo garantisce stabilità, facilità di movi

produttività1000000

TrasportiOcean,Air,Express

Luogo di origineCina

SupportareThe annual output of ceramic substrate products is 1 million pieces.

Certificati GXLH41023Q10642R0S

PortaShanghai,Beijing,Xi’an

Tipo di pagamentoT/T

IncotermFOB,CIF,EXW

Ceramica metallizzata
00:22
Descrizione del prodotto

Substrato metallizzato DPC per circuiti a film sottile

Panoramica del prodotto

Il substrato metallizzato DPC per circuiti a film sottile rappresenta il meglio dell'ingegneria di precisione, progettato specificamente per applicazioni a film sottile ad alte prestazioni che richiedono caratteristiche elettriche e gestione termica eccezionali. In qualità di specialista in ceramica metallizzata , Puwei Ceramic fornisce substrati che consentono prestazioni superiori nei sistemi elettronici avanzati.

Vantaggi chiave per le applicazioni a film sottile

  • Modellazione ultra precisa: risoluzione submicronica per circuiti complessi a film sottile
  • Finitura superficiale eccezionale: Ra < 0,1 μm per la deposizione uniforme di film sottile
  • Gestione termica superiore: dissipazione del calore efficiente per circuiti ad alta densità
  • Adesione eccellente: forte legame rame-ceramica per strati di film sottili affidabili

Visualizzazione del prodotto

High-precision DPC Metallized Substrate for thin film circuit applications

Substrato metallizzato DPC premium ottimizzato per la fabbricazione di circuiti a film sottile

Specifiche tecniche

Proprietà dei materiali

  • Materiali di base: nitruro di alluminio (AlN) o ossido di alluminio (Al₂O₃)
  • Rugosità superficiale: Ra < 0,1 μm (fondamentale per la deposizione di film sottile)
  • Conducibilità termica: AlN: 170-230 W/mK, Al₂O₃: 20-30 W/mK
  • Costante dielettrica: AlN: ~8,8, Al₂O₃: ~9,8 (a 1 MHz)

Specifiche di metallizzazione

  • Spessore rame: 10-100 μm (ottimizzato per processi a film sottile)
  • Larghezza/spaziatura linea: risoluzione fino a 25 μm
  • Precisione di registrazione: ±5 μm per un allineamento preciso
  • Resistenza alla pelatura: ≥8 N/mm per un'adesione affidabile del film sottile

Caratteristiche Elettriche

  • Resistenza di isolamento: >10¹² Ω·cm
  • Rigidità dielettrica: >15 kV/mm (AlN), >10 kV/mm (Al₂O₃)
  • Resistività superficiale: <1,8 μΩ·cm per strati di rame
  • Gamma di frequenza: adatta per applicazioni fino a 40 GHz

Tolleranze dimensionali

  • Spessore del substrato: 0,15 mm - 1,0 mm (ottimizzato per film sottile)
  • Tolleranza sullo spessore: ±0,01 mm
  • Planarità: <0,02 mm/25 mm
  • Diametro via: 50-200 μm (disponibili fori passanti placcati)

Tipi e proprietà di ceramica disponibili

Ceramic material properties comparison for thin film applications

Guida completa alla selezione dei materiali per prestazioni ottimali del film sottile

Guida alla selezione dei materiali

  • Nitruro di alluminio (AlN): ideale per circuiti a film sottile ad alta potenza che richiedono una conduttività termica superiore
  • Allumina (Al₂O₃): soluzione economica per applicazioni standard a film sottile con buone proprietà elettriche
  • Opzioni specializzate: Substrato rivestito in rame AMB ceramico Si3N4 disponibile per applicazioni che richiedono resistenza meccanica estrema

Caratteristiche del prodotto e vantaggi competitivi

Capacità di modellazione ad altissima precisione

La nostra tecnologia DPC consente modelli di circuiti con risoluzioni fino a 25 μm, supportando le applicazioni a film sottile più esigenti. Questa precisione supera i tradizionali substrati in ceramica di allumina e consente densità di circuito e prestazioni più elevate in design compatti.

Eccezionale qualità della superficie

Con una rugosità superficiale mantenuta al di sotto di 0,1 μm Ra, i nostri substrati forniscono la base ideale per i successivi processi di deposizione di film sottile. La finitura a specchio garantisce una deposizione uniforme dello strato e un'adesione ottimale per ulteriori materiali a film sottile.

Gestione termica superiore

La combinazione di ceramiche ad alta conduttività termica e metallizzazione di rame di precisione fornisce un'efficiente diffusione del calore, fondamentale per i circuiti a film sottile in cui il riscaldamento localizzato può influire sulle prestazioni e sull'affidabilità.

Integrità del segnale migliorata

La bassa costante dielettrica e la tangente di perdita garantiscono una distorsione minima del segnale alle alte frequenze, rendendo i nostri substrati ideali per circuiti a film sottile RF e microonde dove l'integrità del segnale è fondamentale.

Eccellenza produttiva in tre fasi

  1. Preparazione del substrato e ottimizzazione della superficie

    Inizia con substrati ceramici di elevata purezza sottoposti a lucidatura di precisione per ottenere una finitura superficiale inferiore al micron. Una pulizia rigorosa elimina i contaminanti che potrebbero compromettere l'adesione della pellicola sottile e le prestazioni elettriche.

  2. Deposizione dello strato di seme e metallizzazione del rame

    La tecnologia avanzata di sputtering deposita strati di seme uniformi, seguiti da galvanostegia controllata per creare uno spessore di rame con una consistenza eccezionale. I parametri di processo sono meticolosamente controllati per garantire conduttività e adesione ottimali.

  3. Modellazione di precisione e definizione di circuiti

    Le tecniche di fotolitografia e incisione all'avanguardia creano schemi di circuiti complessi con una precisione a livello di micron. Questo passaggio finale trasforma lo strato di rame in percorsi conduttivi precisi adattati ai requisiti specifici del circuito a film sottile.

Linee guida per l'integrazione dei circuiti a film sottile

  1. Attivazione e preparazione della superficie

    Iniziare con il trattamento al plasma o l'attivazione chimica per migliorare l'energia superficiale, garantendo un'adesione ottimale per i successivi strati di film sottile.

  2. Deposizione di film sottile

    Utilizza lo sputtering, l'evaporazione o la deposizione di vapori chimici per applicare strati conduttivi, resistivi o dielettrici aggiuntivi come richiesto dal tuo specifico progetto di circuito a film sottile.

  3. Trasferimento e incisione del modello

    Applicare fotoresist e utilizzare la fotolitografia per definire elementi circuitali aggiuntivi, seguiti da un'incisione precisa per creare la struttura completa del circuito a film sottile.

  4. Integrazione dei componenti

    Monta componenti attivi e passivi utilizzando tecniche di incollaggio appropriate, sfruttando le eccellenti proprietà termiche ed elettriche del substrato DPC.

  5. Test e convalida

    Esegui test elettrici, termici e di affidabilità completi per garantire che il circuito a film sottile integrato soddisfi tutte le specifiche prestazionali.

Processo di produzione e garanzia della qualità

Detailed manufacturing process for DPC substrates in thin film applications

Flusso di lavoro di produzione completo che garantisce i più elevati standard di qualità per i circuiti a film sottile

Misure di controllo della qualità

  • Ispezione del materiale in entrata: verifica delle proprietà e della purezza del materiale ceramico
  • Monitoraggio in-process: monitoraggio in tempo reale di spessore, rugosità e adesione
  • Test elettrici: verifica della continuità al 100% e della resistenza di isolamento
  • Verifica dimensionale: misurazione di precisione di dimensioni e tolleranze critiche
  • Analisi della superficie: esame microscopico e profilometria per la qualità della superficie

Scenari applicativi

Circuiti integrati avanzati

Fondamentale per i circuiti integrati ad alta densità che richiedono interconnessioni precise, piazzole di collegamento e strutture conduttive. La precisione inferiore al micron dei nostri substrati DPC consente progetti di circuiti complessi con un'elevata densità di componenti, superando le soluzioni convenzionali di substrato ceramico DBC nelle applicazioni a passo fine.

Sistemi microelettromeccanici (MEMS)

Essenziale per i dispositivi MEMS in cui piattaforme stabili integrano componenti meccanici ed elettrici. Le eccezionali proprietà termiche ed elettriche garantiscono il funzionamento affidabile di sensori, attuatori e microsistemi MEMS in ambienti difficili.

Optoelettronica ad alte prestazioni

Ideale per dispositivi optoelettronici avanzati tra cui LED ad alta potenza, diodi laser e fotorilevatori. La dissipazione del calore e la conduttività elettrica superiori migliorano significativamente le prestazioni, l'affidabilità e la durata del dispositivo nei sistemi di comunicazione ottica.

Circuiti RF e microonde

Perfetto per applicazioni ad alta frequenza tra cui moduli RF, circuiti a microonde e sistemi a onde millimetriche. La bassa perdita dielettrica e l'elevata conduttività consentono un'eccellente integrità del segnale con un'attenuazione minima fino a frequenze di 40 GHz.

Elettronica medica e aerospaziale

Sempre più adottato nei sistemi di imaging medicale, nei dispositivi impiantabili e nell'elettronica aerospaziale dove affidabilità, precisione e stabilità termica sono requisiti critici in ambienti operativi difficili.

Vantaggi per il cliente e proposta di valore

Prestazioni del circuito migliorate

I nostri substrati DPC di precisione consentono tracce più sottili, spaziature più ravvicinate e densità di circuito più elevate, che si traducono direttamente in prestazioni elettriche migliorate e capacità di miniaturizzazione per le vostre applicazioni a film sottile.

Rendimento produttivo migliorato

L'eccezionale qualità superficiale e la stabilità dimensionale dei nostri substrati riducono i difetti nei successivi processi a film sottile, migliorando la resa complessiva della produzione e riducendo i costi di produzione.

Durata della vita del prodotto estesa

La gestione termica e la stabilità meccanica superiori garantiscono un funzionamento affidabile in caso di cicli termici e stress meccanici, prolungando la durata operativa dei dispositivi a film sottile.

Flessibilità di progettazione

La combinazione di modellazione di precisione ed eccellenti proprietà dei materiali offre agli ingegneri una maggiore libertà di progettazione per architetture di circuiti a film sottile innovative.

Certificazioni di Qualità e Conformità

Puwei Ceramic mantiene i più alti standard di qualità con certificazioni internazionali complete:

  • Certificazione del Sistema di Gestione della Qualità ISO 9001:2015
  • Conformità RoHS per la sicurezza ambientale
  • Certificazione REACH per la gestione delle sostanze chimiche
  • Riconoscimento UL per gli standard di sicurezza
  • Certificazioni di qualità specifiche del settore (Certificato: GXLH41023Q10642R0S)
  • Tracciabilità dei materiali e documentazione della consistenza dei lotti

Opzioni di personalizzazione e servizi OEM/ODM

In qualità di esperti in prodotti ceramici elettronici , offriamo servizi di personalizzazione completi su misura per le vostre specifiche esigenze di applicazione di film sottile:

Funzionalità di personalizzazione

  • Intervallo di spessore: da 0,15 mm a 1,0 mm (ottimizzato per processi a film sottile)
  • Flessibilità delle dimensioni: dimensioni personalizzate, compresi substrati di grande formato
  • Schemi di circuito: progetti personalizzati con risoluzione fino a 25 μm
  • Finiture superficiali: molteplici opzioni tra cui ENIG, argento per immersione e rame nudo
  • Tecnologie di via: fori passanti placcati e vie cieche per configurazioni multistrato
  • Selezione dei materiali: vari materiali ceramici inclusi substrati specializzati in nitruro di alluminio

Specializzazione nel grande formato

La nostra esperienza nei substrati ceramici di grandi dimensioni, comprese dimensioni come 240 × 280 × 1 mm e 95 × 400 × 1 mm, ha guadagnato costanti elogi da parte dei clienti dell'industria dei film sottili. Queste capacità ci posizionano come fornitori preferiti per applicazioni che richiedono sostanziali aree di substrato per l'integrazione multi-dispositivo.

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