Parti lavorate in ceramica in alluminio ad alta purezza

Le parti lavorate in ceramica in ceramica in alluminio ad alta purezza della ceramica di Puwei rappresentano l'apice dell'ingegneria di precisione per le esigenti applicazioni di gestione termica. Questi componenti combinano una conducibilità termica eccezionale con proprietà meccaniche superiori, rendendole ideali per la lavorazione dei semiconduttori, l'elettronica di potenza e i sistemi industriali ad alta temperatura.

Le nostre capacità di lavorazione avanzata garantiscono una precisione dimensionale precisa e geometrie complesse, pur mantenendo i benefici intrinseci della ceramica di nitruro di alluminio tra cui un'eccellente isolamento elettrico, stabilità termica e resistenza all'erosione plasmatica.

Proprietà materiali

• Conduttività termica teorica: 320 W · M⁻¹ · K⁻¹ (7-10 volte superiore all'allumina)
• Isolamento elettrico: > 15 kV/cm di rottura
• Coefficiente di espansione termica: abbinato al silicio e al SIC
• Proprietà meccaniche: paragonabile ad al₂o₃ ceramica
• Tossicità: completamente non tossico
• Resistenza agli shock termici: prestazioni eccellenti in rapidi cambiamenti di temperatura
• Resistenza all'erosione al plasma: resiste a danni al plasma nei processi di semiconduttore

Parametri delle prestazioni

Il nostro materiale di nitruro di alluminio ad alta purezza mostra capacità di gestione termica eccezionali con resistività del volume controllata per prestazioni ottimali attraverso ampie fasce di temperatura. Il materiale mantiene una forza di adsorbimento costante e l'uniformità della temperatura nelle applicazioni esigenti.

Capacità dimensionali

• Dimensione massima del componente: 450mm
• Spessore massimo: 20-40 mm
• Macchinatura di precisione: geometrie complesse e tolleranze strette
• Finitura superficiale: varie opzioni disponibili per applicazioni specifiche

Eccezionale conducibilità termica

La conduttività termica teorica di 320 W · M⁻¹ · K⁻¹ fornisce 7-10 volte una migliore dissipazione del calore rispetto alla ceramica di allumina, paragonabile ai metalli di rame e alluminio. Ciò consente un'efficace rimozione del calore dai wafer di silicio nell'elaborazione dei semiconduttori, garantendo la distribuzione della temperatura uniforme e l'accuratezza della lavorazione.

Prestazioni meccaniche superiori

Le proprietà meccaniche paragonabili alle ceramiche al₂o₃ combinate con eccellenti caratteristiche termiche rendono queste parti ideali per applicazioni di gestione termica strutturalmente esigenti.

Ottimo isolamento elettrico

La resistenza alla rottura maggiore di 15 kV/cm garantisce un isolamento elettrico affidabile nelle applicazioni ad alta tensione, completando la nostra tecnologia del substrato ceramico DBC per l'elettronica di alimentazione.

Espansione termica abbinata

Il coefficiente di espansione termica strettamente abbinato al silicio e al carburo di silicio (SIC) riduce al minimo lo stress termico nelle applicazioni di imballaggio e dispositivo di alimentazione a semiconduttore.

Composizione non tossica

Il materiale completamente non tossico garantisce una gestione sicura e la compatibilità ambientale, a differenza di alcune ceramiche alternative ad alte prestazioni.

Eccellente resistenza agli shock termici

La resistenza superiore alle rapide variazioni di temperatura garantisce prestazioni affidabili in ambienti termici ciclistici comuni nelle apparecchiature di elaborazione dei semiconduttori.

Resistenza all'erosione al plasma

Restende il danno al plasma nei processi di fabbricazione di semiconduttori, mantenendo l'integrità delle prestazioni nelle atmosfere aggressive del vuoto alogeno.

Tecnologia integrata di co-conduttore

Chuck elettrostatici a nitruro di alluminio fabbricato da co-ci si impedisce a co-alimentazione a lungo termine, garantendo una qualità costante del prodotto e una forza di adsorbimento stabile.

1. Consultazione di progettazione: collaborare con il nostro team di ingegneria per ottimizzare la progettazione di parti sia per le prestazioni che per la produzione
2. Selezione materiale: selezionare il grado ALN PURITY appropriato in base ai requisiti specifici dell'applicazione
3. Sviluppo del prototipo: utilizzare le nostre capacità di lavorazione di precisione per la convalida del prototipo
4. Gestione della precisione: implementare procedure di gestione adeguate per prevenire danni alle superfici lavorate
5. Integrazione dell'installazione: seguire le pratiche di installazione consigliate considerando le caratteristiche di espansione termica
6. Convalida delle prestazioni: condurre test in condizioni operative effettive per verificare le prestazioni termiche ed elettriche

Attrezzatura di elaborazione dei semiconduttori

Chucks elettrostatici, componenti di maneggevolezza dei wafer e parti della camera di processo beneficiano di eccellente conducibilità termica e resistenza al plasma. Chuck elettrostatici ALN co-filati integrati forniscono una forza di adsorbimento stabile e un controllo preciso della temperatura in ambienti al plasma.

Imballaggio elettronico di alimentazione

Gli spargitori di calore, i substrati isolanti e i componenti del modulo di alimentazione sfruttano le eccezionali capacità di gestione termica, completando le nostre soluzioni di substrato ceramico DPC e substrato ceramico AMB .

Sistemi di produzione a LED

Le piattaforme di riscaldamento, gli apparecchi di montaggio e i componenti di gestione termica utilizzano le proprietà di conducibilità termica e isolamento elettrico per una produzione a LED efficiente.

Sistemi aerospaziali e di difesa

I componenti radar, l'imballaggio elettronico e gli elementi strutturali ad alta temperatura beneficiano delle caratteristiche leggere e ad alta resistenza e della stabilità termica.

Research e strumenti scientifici

I componenti del sistema a vuoto, le parti dello strumento analitico e gli apparecchi ad alta temperatura sfruttano la compatibilità UHV e le proprietà termiche.

• Uniformità del processo avanzata: conducibilità termica superiore garantisce una distribuzione della temperatura pari per i risultati di elaborazione coerenti
• Life dei componenti estesi: resistenza al plasma e alla corrosione riduce la frequenza di sostituzione e i costi di manutenzione
• Migliore qualità del prodotto: prestazioni stabili in ambienti aggressivi garantiscono una qualità di produzione costante
• Complessità del sistema ridotta: la funzionalità integrata riduce il conteggio delle parti e i requisiti di assemblaggio
• Efficienza energetica: un'eccellente gestione termica riduce i requisiti di raffreddamento e il consumo di energia
• Affidabilità del processo: prestazioni coerenti in ambienti semiconduttori e microelettronici più difficili

• Sistema di gestione della qualità: certificato in GXLH41023Q10642R0S
• Controllo della qualità della fonte: R&S indipendente e produzione da materie prime ai prodotti finiti
• Tracciabilità del materiale: documentazione completa durante il processo di produzione
• Convalida delle prestazioni: test regolari di proprietà termiche, meccaniche ed elettriche

Puwei Ceramic offre servizi OEM e ODM completi per soddisfare i requisiti specifici dell'applicazione:

Capacità di lavorazione di precisione

Macchinatura CNC avanzata per geometrie complesse, tolleranze strette e caratteristiche specializzate. Dimensione massima del componente di 450 mm con spessore fino a 40 mm.

Competenza materiale

Varie ceramiche avanzate tra cui substrati in ceramica di allumina , carburo di silicio e nitruro di silicio, insieme alle nostre formulazioni specializzate di nitruro di alluminio.

Servizi specializzati

Capacità di ceramica metallizzata per applicazioni che richiedono brasature, saldature o collegamenti elettrici, estendendosi a prodotti di ceramica elettronica complessi.

1. Preparazione delle materie prime: selezione e formulazione delle polveri di nitruro in alluminio ad alta purezza
2. Formazione di precisione: tecniche di modellatura avanzata per la geometria dei componenti iniziali
3. Sintering ad alta temperatura: sinterizzazione controllata per densità e proprietà ottimali
4. MACCHINING CNC: lavorazione di precisione per ottenere dimensioni e tolleranze finali
5. Ispezione di qualità: verifica a dimensione e prestazione completa
6. Finitura superficiale: trattamenti superficiali appropriati per requisiti specifici dell'applicazione

Cosa rende il nitruro di alluminio superiore all'allumina per applicazioni termiche?

ALN offre conducibilità termica di 320 W/M · K rispetto alle 30 W/M · K di allumina, fornendo 7-10 volte una migliore dissipazione del calore mantenendo eccellenti proprietà di isolamento elettrico.

Queste parti possono resistere agli ambienti al plasma a semiconduttore?

Sì, i nostri componenti Aln ad alta purezza presentano un'eccellente resistenza all'erosione plasmatica e possono funzionare continuamente nelle atmosfere di aspirapolvere alogeno plasmatico comuni nella lavorazione dei semiconduttori.

Quali livelli di precisione possono essere raggiunti con parti ALN lavorate?

Le nostre capacità di lavorazione CNC avanzate consentono tolleranze strette e geometrie complesse adatte alle applicazioni di semiconduttore ed elettronica più esigenti.

Ci sono limiti di dimensioni per i componenti ALN lavorati?

Siamo in grado di produrre componenti fino a 450 mm massima di dimensione con spessore fino a 40 mm. I componenti più grandi possono richiedere approcci specializzati: contattarci per discutere requisiti specifici.

In che modo i mandrini elettrostatici a beneficio di co-fuoco integrati?

Il co-fuoco integrato impedisce il degrado degli elettrodi nel tempo, garantendo una forza di adsorbimento costante e un controllo della temperatura mantenendo la qualità del prodotto nel funzionamento a lungo termine.