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$5
≥50 Piece/Pieces
marchio: Ceramica Puwei
Luogo D'origine: Cina
Tipi Di: Ceramica ad alta frequenza
Materiale: Carburo di silicio
Disco Trasportatore In Carburo Di Silicio: Disco di trasporto ceramico in carburo di silicio
| Unità vendibili: | Piece/Pieces |
|---|---|
| Tipo pacchetto: | I substrati ceramici sono imballati in cartoni con rivestimenti in plastica per evitare graffi e umidità. I cartoni robusti vengono impilati su pallet, fissati con reggette o pellicola termoretraibile. In questo modo garantisce stabilità, facilità di movi |
| Esempio immagine: |
Pacchetto: I substrati ceramici sono imballati in cartoni con rivestimenti in plastica per evitare graffi e umidità. I cartoni robusti vengono impilati su pallet, fissati con reggette o pellicola termoretraibile. In questo modo garantisce stabilità, facilità di movi
produttività: 1000000
Trasporti: Ocean,Air,Express
Luogo di origine: Cina
Supportare: The annual production of ceramic structural components are 200000 pieces.
Certificati : GXLH41023Q10642R0S
Porta: Shanghai,Beijing,Xi’an
Tipo di pagamento: T/T
Incoterm: FOB,CIF,EXW
Il disco del vassoio portante in ceramica al carburo di silicio (SiC) di Puwei rappresenta componenti avanzati ad alte prestazioni essenziali per le industrie di precisione, tra cui la produzione di semiconduttori, l'optoelettronica e l'aerospaziale. Progettati per un'eccezionale stabilità termica, resistenza chimica e durata meccanica, questi vassoi garantiscono una manipolazione priva di contaminazioni e resistenza alle alte temperature nei processi critici.

Disco del vassoio portante in ceramica SiC con superficie di precisione per un supporto ottimale del wafer

Disco portante SiC funzionante in ambiente di camera bianca per semiconduttori
Fondamentale per i processi di ricottura, incisione e CVD dei wafer in cui è essenziale una precisione di posizionamento entro 1 µm. La stabilità termica e la resistenza alla contaminazione del vassoio riducono i difetti nelle linee di produzione ad alto rendimento per l'imballaggio microelettronico e la fabbricazione di dispositivi.
Fornisce una base non contaminante per la fabbricazione di LED e diodi laser, sfruttando una conduttività termica superiore per dissipare il calore in modo efficace nelle applicazioni optoelettroniche che richiedono una gestione termica precisa.
Protegge i componenti elettronici sensibili di satelliti e missili da temperature e radiazioni estreme, superando le prestazioni dei materiali tradizionali negli ambienti aerospaziali esigenti dove l'affidabilità è fondamentale.
Utilizzato nei processi di produzione di componenti microelettronici ad alta potenza e dispositivi di potenza in cui il trattamento ad alta temperatura e il controllo della contaminazione sono fondamentali per le prestazioni e l'affidabilità del dispositivo.
Il disco del vassoio portante SiC di Puwei Ceramic è conforme agli standard di qualità ISO 9001 e detiene il certificato di copyright sulla superficie del dissipatore di calore in ceramica. I nostri processi produttivi garantiscono la piena conformità alle direttive ambientali RoHS e REACH, garantendo la qualità del prodotto e l'accettabilità globale per le applicazioni critiche.
Offriamo servizi OEM e ODM completi con ampie capacità di personalizzazione, tra cui personalizzazione dimensionale da 0,2 mm a 2,00 mm di spessore, diametri personalizzati fino a 400 mm, finiture superficiali specializzate, modelli di scanalature e metallizzazione opzionale per requisiti applicativi specifici. La nostra esperienza nella ceramica di grande formato consente progetti complessi su misura per esigenze di lavorazione uniche.
Con una profonda specializzazione nei materiali ceramici avanzati e nella produzione di precisione, Puwei offre dischi SiC Carrier Tray Disk affidabili e ad alte prestazioni per le applicazioni industriali e dei semiconduttori più esigenti. La nostra esperienza nella scienza e nell'ingegneria dei materiali garantisce soluzioni ottimali per la lavorazione ad alta temperatura, il controllo della contaminazione e l'affidabilità a lungo termine in ambienti di produzione critici.
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