Braccio robotico in ceramica di allumina per l'industria dei semiconduttori

Funzionalità avanzate e vantaggi tecnici

Posizionamento ad altissima precisione

I nostri bracci robotici in ceramica di allumina forniscono un'eccezionale stabilità dimensionale e un'espansione termica minima, garantendo il posizionamento preciso dei wafer durante processi critici, tra cui operazioni di litografia, incisione e deposizione.

Controllo superiore della contaminazione

La superficie non porosa (Ra ≤ 0,2 μm) e la generazione minima di particelle rendono i nostri bracci in ceramica ideali per gli ambienti delle camere bianche, prevenendo la contaminazione dei wafer e mantenendo i tassi di rendimento nella fabbricazione di semiconduttori.

Eccezionale resistenza all'usura

Con una durezza (≥80 HRA) seconda solo al diamante, la ceramica di allumina offre un'eccezionale resistenza all'usura, prolungando significativamente la durata utile (3-5 volte più lunga del metallo) e riducendo la frequenza di manutenzione.

Eccellente isolamento elettrico

L'elevata rigidità dielettrica (15-20 kV/mm) e la resistività di volume (>10¹⁴ Ω·cm) rendono questi bracci perfetti per applicazioni che coinvolgono moduli ad alta frequenza , dispositivi di potenza e applicazioni a microonde in cui l'isolamento elettrico è fondamentale.

Stabilità termica

Mantiene l'integrità dimensionale in ampi intervalli di temperature (da -50°C a 1500°C), garantendo prestazioni affidabili nelle applicazioni di trattamento termico e nelle applicazioni optoelettroniche .

Inerzia chimica

Resistente alla maggior parte degli agenti chimici utilizzati nella lavorazione dei semiconduttori, inclusi acidi, alcali e solventi, garantendo affidabilità a lungo termine in ambienti chimici difficili.