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$500
≥50 Piece/Pieces
marchio: Ceramica Puwei
Luogo D'origine: Cina
Tipi Di: Ceramica piezoelettrica, Ceramica elettrotermica, Ceramica ad alta frequenza, Ceramica dielettrica, Ceramica isolante
Materiale: ALLUMINA
Braccio Robotico Di Produzione Di Wafer: Braccio robotico in ceramica di allumina per manifatturiero del wafer
| Unità vendibili: | Piece/Pieces |
|---|---|
| Tipo pacchetto: | I substrati ceramici sono imballati in cartoni con rivestimenti in plastica per evitare graffi e umidità. I cartoni robusti vengono impilati su pallet, fissati con reggette o pellicola termoretraibile. In questo modo garantisce stabilità, facilità di movi |
| Esempio immagine: |
Pacchetto: I substrati ceramici sono imballati in cartoni con rivestimenti in plastica per evitare graffi e umidità. I cartoni robusti vengono impilati su pallet, fissati con reggette o pellicola termoretraibile. In questo modo garantisce stabilità, facilità di movi
produttività: 200000
Trasporti: Ocean,Air,Express
Luogo di origine: Cina
Supportare: The annual production of ceramic structural components are 200000 pieces.
Certificati : GXLH41023Q10642R0S
Porta: Shanghai,Beijing,Xi’an
Tipo di pagamento: T/T
Incoterm: FOB,CIF,EXW
Il braccio robotico in ceramica di allumina di Puwei stabilisce il punto di riferimento per affidabilità e precisione nell'automazione dei semiconduttori. Progettato specificamente per ambienti cleanroom esigenti nella produzione di wafer, offre un funzionamento privo di contaminazioni, precisione di posizionamento a livello di micron e longevità eccezionale dove le prestazioni non sono negoziabili. Le sue proprietà intrinseche lo rendono indispensabile per la movimentazione di componenti sensibili nelle linee di produzione avanzate di packaging microelettronico e di circuiti integrati .

Braccio robotico in ceramica di allumina ad alta precisione progettato per la movimentazione di wafer in camera bianca.
Materiale di base: ceramica di allumina di elevata purezza (Al₂O₃). Contenuto di allumina: ≥ 95% (standard), ≥ 99,6% (elevata purezza). Durezza Mohs: 9. Densità: 3,8-3,9 g/cm³. Finitura superficiale: Ra ≤ 0,2 μm (disponibile finitura a specchio).
Coefficiente di dilatazione termica: 6-8 × 10⁻⁶/°C. Conduttività termica: 15-30 W/(m·K). Temperatura operativa massima: 1500°C. Resistenza allo shock termico: eccellente.
Resistività del volume: >10¹⁴ Ω·cm. Rigidità dielettrica: 15-20 kV/mm. Resistenza alla compressione: >2500 MPa. Resistenza alla flessione: 300-400 MPa. Modulo di Young: 300-400 GPa.
Genera particelle minime ed è resistente ai prodotti chimici di processo aggressivi, garantendo la purezza dei wafer nelle fasi critiche di confezionamento elettronico e confezionamento di sensori .
Resiste alle sollecitazioni operative ad alta velocità senza deformazioni. La bassa espansione termica garantisce una precisione ripetibile attraverso i cicli di temperatura, fondamentale per le applicazioni a microonde .
La durezza Mohs di 9 garantisce una durata operativa notevolmente estesa rispetto ai bracci in metallo o polimero, riducendo i costi di manutenzione e i tempi di fermo.
La resistività ad alto volume previene le scariche elettrostatiche, gestendo in modo sicuro i wafer sensibili per componenti microelettronici e dispositivi di potenza ad alta potenza .

Design ottimizzato per il trasferimento e il posizionamento preciso dei wafer negli strumenti per semiconduttori.
Trasferimento e posizionamento di precisione nei moduli di litografia, deposizione CVD/PVD/ALD, incisione e impianto ionico.
Manipolazione di wafer e matrici delicati durante le procedure di taglio, incollaggio del die e test finali per varie applicazioni di microelettronica .
Fondamentale per la gestione di interpositori e substrati nel packaging IC 2.5D/3D, nel packaging Fan-Out Wafer-Level (FOWLP) e in altre tecnologie avanzate di packaging per circuiti integrati .
Automazione affidabile nella produzione di dispositivi di potenza (ad esempio IGBT) e componenti a microonde , dove la purezza e la stabilità dei materiali sono fondamentali.
Ogni braccio robotico viene prodotto secondo un processo rigoroso e controllato: 1) Selezione dei materiali ad elevata purezza. 2) Formatura di precisione (Pressatura/Stampaggio ad iniezione). 3) Sinterizzazione ad alta temperatura in atmosfera controllata. 4) Lavorazione CNC di precisione con tolleranze inferiori al micron. 5) Ispezione rigorosa (dimensione, meccanica, qualità superficiale). 6) Imballaggio per camere bianche.
Prodotto in strutture certificate ISO 9001:2015 . Processi e materiali sono conformi agli standard pertinenti del settore dei semiconduttori, garantendo accettazione e affidabilità globali.
Forniamo soluzioni su misura per soddisfare i vostri requisiti specifici di strumenti e processi:
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